秦總，有這筆錢就足夠了，一年之內(nèi)，我們就能搞出193納米的ARF光刻機(jī)，如果使用多重曝光技術(shù)，這種光刻機(jī)可以一直用到90納米，但是，在下一代65納米的工藝節(jié)點(diǎn)上，這種光刻機(jī)就被限制住了?！?/p>
大部分人都知道，制造芯片會(huì)被光刻機(jī)卡脖子，但是究竟怎么卡脖子，并不是很清楚。
制造芯片，本質(zhì)上就是在硅片上刻蝕電路，經(jīng)過多年發(fā)展，光刻法已經(jīng)徹底成熟了，這就和照相機(jī)一樣，在硅片上抹一層光刻膠，然后用光刻機(jī)把對(duì)應(yīng)的光刻膠燒掉，就像是照相機(jī)底片感光一樣，從而把電路圖做出來。
沒錯(cuò)，光刻機(jī)只是像是復(fù)印機(jī)一樣，把電路圖復(fù)制在硅片上，接下來還會(huì)有刻蝕機(jī)，根據(jù)光刻出來的電路圖，在硅片上用化學(xué)手段做出MOS管來，從而做出一個(gè)個(gè)電路。
光刻是最重要的一步，光刻機(jī)的技術(shù)進(jìn)步，也會(huì)推動(dòng)芯片制造工藝的進(jìn)步。
而光刻機(jī)之中，光源的波長(zhǎng)很重要。
早些年使用的是紫外光源，從波長(zhǎng)436納米的g線到波長(zhǎng)365納米的i線，發(fā)展到了深紫外光源，也就是波長(zhǎng)248納米的KrF和波長(zhǎng)193納米的ArF，到這里，技術(shù)止步了！
“目前193納米的光源，使用多次曝光技術(shù)，可以把工藝推進(jìn)到90納米，幾乎所有人都認(rèn)為，193納米的光刻機(jī)，是無法延伸到65納米技術(shù)節(jié)點(diǎn)的，如果繼續(xù)改進(jìn)制程，那就需要在光源上做手腳?！?/p>
別看徐教授這幾年在造光盤，但是，他從來就沒有離開過自己真正喜愛的光刻機(jī)！一直都在關(guān)注光刻機(jī)技術(shù)的進(jìn)步！
己方現(xiàn)在可以造ArF光源的光刻機(jī)，接下來的技術(shù)路線怎么解決？
光刻機(jī)的波長(zhǎng)越小，就代表著光源越細(xì)，光刻電路也會(huì)越細(xì)，芯片的技術(shù)制程才能推進(jìn)一大步。
“目前，行業(yè)內(nèi)一共有兩種技術(shù)路線，尼康、佳能這些老牌公司，主張使用157納米的氟氣準(zhǔn)分子激光作為光源，全新的EUV LLC聯(lián)盟主張使用極紫外激光器技術(shù)，也就是EUV光源，直接把技術(shù)路線迭代到十納米以下。但是……”
這兩種技術(shù)路線，都有嚴(yán)重缺陷！
波長(zhǎng)越短的光，越容易被吸收！157納米的光源，會(huì)被大多數(shù)材料強(qiáng)烈吸收，以至于無法到達(dá)芯片上！只有二氟化鈣研磨的鏡頭可以勉強(qiáng)使用，但是這種材料做光學(xué)鏡頭，質(zhì)量太差，壽命也短。
至于EUV光源，那就不用折射原理了，直接加反射鏡片，解決了透鏡吸收光源的問題，但是，這種光刻機(jī)屬于全新的產(chǎn)品，研發(fā)很難，而且，極紫外光的產(chǎn)生很困難，需要耗費(fèi)大量的電力。
兩種技術(shù)路線，都有很大的問題，接下來用什么技術(shù)路線，非常關(guān)鍵！
“嗯，我們開辟新的賽道。”秦川說道：“我們?cè)贏rF光刻機(jī)的基礎(chǔ)上，鏡頭和光源之間加一層水，通過水的折射作用，把193納米光源降低到134納米?！?/p>
什么？
徐教授驚呆了，倪老也驚呆了。
這不是開玩笑嗎？在精密的光刻機(jī)鏡頭上，加一層水？
萬一這層水要是漏了，豈不是會(huì)讓光刻機(jī)壞掉？萬一水里有一個(gè)氣泡，豈不是會(huì)改變光線的路徑，從而導(dǎo)致整個(gè)硅片都報(bào)廢？
193納米以下光源技術(shù)，困擾了整個(gè)光刻機(jī)行業(yè)很多年！
尼康、佳能這些光刻機(jī)巨頭，堅(jiān)定地走157納米光源道路，結(jié)果……技術(shù)路線錯(cuò)誤，耗費(fèi)巨資研制出來的157納米光刻機(jī)，沒得到一個(gè)訂單！這些巨頭也因此而衰落。
后世大名鼎鼎的ASML，就是因?yàn)檠簩毥?rùn)式光刻機(jī)，取得了圓滿成功，贏家通吃，徹底占領(lǐng)光刻機(jī)市場(chǎng)！
秦川不懂造芯片，但是基本的路線還是知道的。而且，他還知道其中一個(gè)關(guān)鍵人物：林本堅(jiān)！
林本堅(jiān)，灣灣人，1970年從灣灣畢業(yè)之后，就去了俄亥俄州立大學(xué)讀研，老師就是光刻機(jī)領(lǐng)域里的技術(shù)泰斗：帕特里克-懷特博士。在導(dǎo)師的帶領(lǐng)下，他們團(tuán)隊(duì)研制出來了深紫外光源，從248納米進(jìn)步到了193納米。
林本堅(jiān)畢業(yè)后，先加入了IBM公司，之后又在IBM旗下的領(lǐng)創(chuàng)公司工作，繼續(xù)搗鼓光刻機(jī)技術(shù)，當(dāng)光刻機(jī)技術(shù)在193納米光源面前停滯不前的時(shí)候，他提出來了浸潤(rùn)式技術(shù)，也就是把光源和鏡頭泡在水里，從而將光源波長(zhǎng)縮短。
可惜，他四處碰壁，IBM不要，之后他新加入的臺(tái)積電也不要，他只能跑去給默默無名的ASML推銷，然后，ASML就成功了！
嗯，這個(gè)人也必須要弄到手，如果他不來，就干掉他，總之，這條技術(shù)路線，不能讓其他光刻機(jī)廠商走，尤其是ASML！
“秦總，秦總！”
秦川這才發(fā)現(xiàn)，自己剛剛走思了！
徐教授深深地呼吸了一口氣：“秦總，您堅(jiān)持走這條技術(shù)路線？”
“沒錯(cuò)，詳細(xì)我，這條路線是最正確的，等到這種光刻機(jī)研發(fā)成功，我們芯片制造到45納米都不用愁了，再往后，我們就可以研發(fā)EUV光刻機(jī)！”
只有十幾納米波長(zhǎng)的極紫外光，是刻蝕十納米以下芯片最合適的光刻機(jī)，不過……技術(shù)難度也相當(dāng)大，得用十年以上的時(shí)間來研發(fā)。而浸潤(rùn)式光刻機(jī)，就是最好的過渡產(chǎn)品！
“好！”
秦總別的本事沒有，指導(dǎo)技術(shù)路線方面，從來沒錯(cuò)過，哪怕是跨專業(yè)指導(dǎo)！
既然秦總堅(jiān)持，那就一定有他的道理，只要聽秦總的就可以了！
“嗯，徐教授，加油，我們的電子技術(shù)能否成為世界第一，就看你的了！”
要么不做，要做就做到世界第一！
徐教授點(diǎn)頭：“好！”他也是因?yàn)檫@個(gè)，在接到召喚之后，才會(huì)立刻趕來的原因，既然要搞，就是瞄準(zhǔn)世界第一的！
“組建團(tuán)隊(duì)，選擇工作地點(diǎn)這些，有需要集團(tuán)幫助的，隨時(shí)開口！咱們會(huì)全力支持，讓你們安心工作。”
“嗯，我會(huì)去大學(xué)，把之前的團(tuán)隊(duì)找來，工作地點(diǎn)，在大學(xué)附近找個(gè)地方就行……”